近日，貴金屬集團稀貴金屬綜合利用新技術國家重點實驗室靶材研發(fā)團隊在貴金屬靶材應用基礎研究領域取得了重要進展。其項目研究為深入理解磁控濺射過程中鎳鉑靶材表面結瘤的形成機制提供了全新的視角，為解決濺射鍍膜中的關鍵技術難題提供了理論依據。

據了解，磁控濺射過程中鎳鉑靶材表面結瘤影響著鍍膜質量和靶材壽命，長期以來，一直是磁控濺射領域亟待解決的技術瓶頸。靶材團隊經過2年多的深入研究，發(fā)現靶材表面的缺陷區(qū)域是導致結瘤形成的關鍵因素。

本項目研究得到了國家重點研發(fā)計劃、云嶺興滇英才計劃和云南貴金屬實驗室項目等的支持，研究成果“Mechanisms of Nodule Formation on Ni-Pt Targets During Sputtering”被Elsevier出版的國際知名期刊Applied Surface Science（影響因子IF6.3，中科院二區(qū)TOP期刊）正式接收發(fā)表。成果的取得為優(yōu)化鎳鉑靶材質量提供了重要的理論基礎，為提高靶材成品率提供了關鍵支撐，解決行業(yè)共性難題，進一步鞏固了貴金屬集團在貴金屬靶材學術及產品研發(fā)領域的國內領先地位。